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等離子清洗機 V1000/1000X/1000XS

發布時間：2019-02-21 16:50:50瀏覽次數：次
13.56MHz高頻輸出的等離子清洗機，搭載RIE·DP雙模式
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式 高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應 多種用途。
特征
●  可變更電極構造提高等離子效果。
●  搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
●  可根據需求規格提供定制。

用途
●  硅晶圓的灰化及蝕刻
●  基板表面污垢處理
●  IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
●  半導體相關部品的電子材料的干式清洗
●  自然氧化膜·有機物去除
●  界面活性處理
●  表面污染物去除

內槽


規格

型號 V1000 V1000X V1000XS
等離子模式 DP/RIE
高頻電源 13.56MHz
輸出功率 Max1000W Max1000 & 1500W
有效電極尺寸 W280×D280mm W300×D300mm W400×D375mm
電極 平行平板 2段電極（獨立） 平板（多目的）
反應氣體 聚合控制器2系統（填充氣路另行安裝）
真空泵（標配） 約1000L/min 約1500L/min 1000 & 1500L/min
安全裝置 門檢測開關、聯鎖機構、緊急停止開關、溫度過升防止器等

管路連接圖

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